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管式光亮退火炉

发布者:丹阳方伟炉业有限公司 发布时间:2020-8-31 16:19:45 点击次数:1056 关闭

    退火炉是用于制造半导体器件的工艺,包括加热多个半导体晶片以影响它们的电性能。热处理是为不同的效果而设计的。晶片可以被加热以激活掺杂剂、将薄膜转换成薄膜或晶片衬底界面、密集沉积薄膜、改变生长薄膜的状态、修复注入的损伤、将掺杂剂从一个薄膜移动或转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶片衬底。 
    退火炉可以集成到其他炉处理步骤中,例如氧化,或者可以单独处理。退火炉由专门设计用于加热半导体晶片的设备完成。退火炉是一种超节能结构和纤维结构的节能周期运行炉,节电60%。


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