光亮退火炉在半导体器件制作中的工艺，其包含加热多个半导体晶片以影响其电功能。热处理是针对不同的作用而设计的。广泛应用于化工、石油、食品、冶金、机械、轻工、电力、船舶、造纸、矿山、医药、集中供热等工业部门。随着社会生产力的发展，其在各行业中的应用越来越广泛。能够加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使细密堆积的薄膜，改动生长的薄膜的状态，修复注入的损害，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。
光亮退火炉能够集成到其他炉子处理进程中，例如氧化，或许能够自己处理。光亮退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。光亮退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，选用纤维结构，节电60%。
光亮退火炉又包含箱式光亮退火炉、真空式光亮退火炉、罩式光亮退火炉、燃气式光亮退火炉、去应力光亮退火炉、接连式光亮退火炉等。
退火炉按热源分类主要有电热炉、燃煤退火炉、燃油退火炉、天然气退火炉、煤气退火炉等，其中以自备煤气发生炉所产煤气退火炉应用最广泛。煤气退火窑减去了燃烧室，直接利用煤气烧嘴在加热室喷射燃烧。为了降低能耗，煤气退火窑往往配有换热系统，将空气转换为助燃热风进行煤气的助燃。
罩式光亮退火炉
特点：
1、材料整个退火工艺过程都置于保护气氛中，经退火的工件表面光亮无氧化，材料表面不脱碳氧化。
2、由于炉内保护气由特制风机强对流循环，炉温均匀，使炉内温差控制在5℃以内；从而有效保证炉内所有退火材料软硬一致，便于材料深加工。
3、采用双炉座升温、冷却，准连续作业模式。炉体结构科学合理，节能效果明显，吨钢能耗低国内领先。单炉最大装容达90吨，生产效率高。
4、经该型炉处理的材料表面光亮，免除酸洗工艺，洁净工作环境，消除了酸污染。
5、整套设备全部微机控制，自动化程度高，能有效保证产品质量和设备安全运行。
适用范围：
1、黑色金属钢带、钢丝、钢管件中间和成品光亮退火。
2、有色金属铜带、铜丝、铜管、铜棒中间和成品光亮退火。
3、标准件、链条、机械零部件等散件光亮退火。
炉衬选用全纤维结构，相对砖式炉膛节能60%左右，选用优质长纤维刺毯为质料，运用专用设备制成300×300×300的规格，并在加工进程留有一定的紧缩量，以保证模块在砌筑完毕后，每块陶瓷纤维块在不同方向胀大，使模块之间互挤成无间隙的全体，到达无缺蓄热作用，而且该产品施工方便快捷，均能直接固定于炉壳钢板的不锈钢锚圆钉上。与其它产品相比长处为低导热，低热容量，优秀的腐蚀功能，优秀的热稳定性及热抗震性、绝热性，并且锚固件设置于炉体冷面，提高了纤维的耐高温强度。
光亮退火炉在半导体器件制作中的工艺运用上面比较特别，我们应该按照特定的要求来进行操作，不然会造成半导体器件出产中出现问题。
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