光亮退火炉能更有效地支持客户的生产过程，主要用于各种大型金属或合金工件及批量退火热处理，以天然气或煤气为介质燃烧加热，控制先进，精度高。燃烧控制系统由喷嘴前供气管道系统、喷嘴前压缩空气管道系统、喷嘴前气体管道系统、亚高速燃烧器、炉前点火控制系统和温度控制系统组成。不同的温度控制器控制不同的燃烧器，从而实现大小火和回炉温度的自动控制。配备多通道彩色无纸记录仪，可直接与上位机通讯，实时监控气体光亮退火炉内各点温度。
光亮退火炉可以更有效地支持我们客户的生产工艺
热炉意味着炉内温度必须高于800。氨区分气在炉内冲洗前，应将99%的纯氮气从氨区分装置冲洗至管道、流量计和马弗炉罐。当准备向炉内充入氨区分气体时，打开排气阀并将其放下。然后向炉内充入氨分化气体。设备的正常运行温度不得低于750。此外，在应用过程中不可能通过任何碳氢化合物气体来防止爆炸。
在短时间停电的情况下(约15分钟内)，操作人员不应紧张，因为炉膛和氨分化炉都有一定的热量，足以保证15分钟内向炉膛供气。如果你15分钟内不打电话。停工应按照“停工安全规则”进行。
关机后的最佳平衡冷却，也就是说，所有四个温度区将在相同的温度下冷却。(100后再次下降)原因是：由于风扇效应。四个温度区的冷却速度不同。这对马弗的生命周期没有好处。当长时间停炉时，应重新启动炉，氨分化炉和吸附塔应进行活化和再生。在炉启动期间，确保氨区分气的露点质量。最好依次干燥塔a和塔b一次。
光亮退火炉是一种用于制作半导体器件的工艺，它包括加热几个半导体晶片以影响其电性能。热处理是为不同的效能而设计的。硅片可以加热以激起掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶圆-基板界面，从而改变细密沉积的薄膜，康复成长的薄膜，康复注入的损处，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜转移到硅片。
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